3D Lithography in FabSim 3D灰度光刻工艺
发布时间:2024-05-15 10:48:20   浏览次数:291

3D灰度光刻工艺可以实现在Intellisuite的工艺模拟阶段自定义和优化灰度掩模,并可以查看和分析生成的三维结构,这也将使设计师在最初的想法上更具创新性,并且可以为设计师节省更多的时间和资源。

 

Layout for testing  测试版图

 

Simulation result  仿真结果

 

01、灰度掩膜图形生成 

在BluePrint中创建灰度掩模图案

1. 创建一个新图层,

2. 在工具菜单中选择脚本编辑器,

3. 填写脚本,

4. 单击运行以生成掩模.

       

 

02、3D 曝光

在IntelliFab中创建三维曝光

1. 在数据库中选择 Exposure->UV->3D->Gray-sacle,

2. 在参数中选择mask_no (请注意,该层中的所有图案均被视为灰度掩模图案),

3. 保存文件并在FabSim中进行模拟.

    

数据库中的3D曝光                                                                    选择图层

 

         

 

仿真结果仿                                                                                真结果侧视图


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